本发明属半导体集成电路制造领域，特别涉及一种紫外光刻机曝光系统用精密介质膜反射镜及其镀制方法，包括非球面基片（1）及交替叠置多层非周期膜；所述交替叠置多层非周期膜沉积于非球面基片（1）的内表面；交替叠置多层非周期膜包括高折射率镀膜材料层Ta2O5及低折射率膜材料层SiO2。本发明镀制方法包括a、开启真空室；b、控制镀膜温度；c、对非球面基片（1）进行蚀刻；d、镀制膜层。本发明吸收损失小，膜层表面机械强度高，日常维护清洁时不易出现划痕，光学特性稳定，使用周期长，成本低廉。