发明授权
- 专利标题: 环形等离子体处理装置
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申请号: CN201480014623.2申请日: 2014-03-14
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公开(公告)号: CN105144849B公开(公告)日: 2019-06-18
- 发明人: W·霍尔伯 , R·J·巴斯奈特
- 申请人: 普拉斯玛比利提有限责任公司
- 申请人地址: 美国得克萨斯
- 专利权人: 普拉斯玛比利提有限责任公司
- 当前专利权人: 普拉斯玛比利提有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国得克萨斯
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 秦晨
- 优先权: 61/791,274 2013.03.15 US
- 国际申请: PCT/US2014/027881 2014.03.14
- 国际公布: WO2014/143775 EN 2014.09.18
- 进入国家日期: 2015-09-14
- 主分类号: H05H1/24
- IPC分类号: H05H1/24 ; H05H1/46
摘要:
一种包含真空室的等离子体处理装置,该真空室包含:管道、处理室、用于将气体引入真空室内的第一气体输入口,以及用于从真空室中排出气体的泵出口。磁芯包围着管道。射频电源的输出与磁芯电连接。射频电源给磁芯供电,由此在真空室内形成环形等离子体回路放电。用于在等离子体处理期间支撑工件的台板位于处理室内。
公开/授权文献
- CN105144849A 环形等离子体处理装置 公开/授权日:2015-12-09