- 专利标题: 一种同时获取薄膜厚度与折射率的标准干涉片拟合法
- 专利标题(英): Standard interference piece fitting method capable of acquiring film thickness and refractivity simultaneously
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申请号: CN201510606559.3申请日: 2015-09-22
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公开(公告)号: CN105157585A公开(公告)日: 2015-12-16
- 发明人: 王少伟 , 刘星星 , 冀若楠 , 陈飞良 , 陆卫 , 陈效双
- 申请人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 申请人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 郭英
- 主分类号: G01B11/06
- IPC分类号: G01B11/06 ; G01N21/45
摘要:
本发明公开了一种同时获取薄膜折射率与厚度的双标准干涉片拟合法,它只需将待测薄膜镀制在两种镀有一层已经形成干涉但不同折射率薄膜的标准干涉片上,即可通过同时拟合两种标准干涉片镀膜前后的透(或反)射光谱,同时精确地获取待测薄膜的厚度与折射率,膜厚测量极限高达1nm,相对于传统方法30nm测量极限具有很大提高。另外,该方法由于同时对两种标准干涉片进行拟合,可以极大地减小测试系统的误差,显著降低对测试系统性能的要求和成本。而且,本发明方法适用于镀膜系统的在线检测与监控,可以在工业生产或者科学研究中推广使用。
公开/授权文献
- CN105157585B 一种同时获取薄膜厚度与折射率的标准干涉片拟合法 公开/授权日:2017-10-13