• 专利标题: 湿式制程腔室及包含其的湿式制程装置
  • 专利标题(英): Wet processing chamber and apparatus for wet processing comprising same
  • 申请号: CN201480015848.X
    申请日: 2014-01-16
  • 公开(公告)号: CN105163873A
    公开(公告)日: 2015-12-16
  • 发明人: 郑光春温雄龟韩英求
  • 申请人: 印可得株式会社
  • 申请人地址: 韩国京畿道安山市檀园区陵案路108
  • 专利权人: 印可得株式会社
  • 当前专利权人: 印可得株式会社
  • 当前专利权人地址: 韩国京畿道安山市檀园区陵案路108
  • 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
  • 代理商 杨文娟; 臧建明
  • 优先权: 10-2013-0005107 2013.01.16 KR
  • 国际申请: PCT/KR2014/000495 2014.01.16
  • 国际公布: WO2014/112818 KO 2014.07.24
  • 进入国家日期: 2015-09-15
  • 主分类号: B08B3/00
  • IPC分类号: B08B3/00 C25D17/00 H01L21/302
湿式制程腔室及包含其的湿式制程装置
摘要:
本发明提供一种湿式制程腔室及包含其的湿式制程装置,所述湿式制程腔室是用于进行对被处理材的湿式制程的湿式制程腔室,包含:壳体,其具备以供所述被处理材通过的方式形成的一个以上的开口部;及阻断部,其以与所述开口部对应的方式配置,且具备以供所述被处理材通过的方式形成的狭缝;且所述阻断部具有大于所述开口部的尺寸,所述阻断部的狭缝具有小于所述开口部的宽度。
公开/授权文献
0/0