Invention Publication
CN105182684A 一种掩模板的检修方法
无效 - 驳回
- Patent Title: 一种掩模板的检修方法
- Patent Title (English): Overhauling method of mask plate
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Application No.: CN201510685461.1Application Date: 2015-10-20
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Publication No.: CN105182684APublication Date: 2015-12-23
- Inventor: 井杨坤 , 孙跃 , 王婷婷
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- Agent 申健
- Main IPC: G03F1/84
- IPC: G03F1/84 ; G03F1/72

Abstract:
本发明实施例提供了一种掩模板的检修方法,涉及显示技术领域,可延长掩模板的使用寿命,避免生产成本增加,提高生产效率。该方法包括:确定掩模板的金属镀层的异常位置,并确定所述异常位置的坐标;对所述异常位置涂覆修复胶,以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平;其中,所述修复胶包括金属材料;对所述修复胶进行固化。可对掩模板进行检修。
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