- 专利标题： 一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法
-
申请号： CN201510705271.1申请日： 2015-10-27
-
公开(公告)号： CN105200383B公开(公告)日： 2019-03-01
- 发明人: 张斌 , 张俊彦 , 高凯雄 , 强力 , 王健
- 申请人： 中国科学院兰州化学物理研究所
- 申请人地址： 甘肃省兰州市城关区天水中路18号
- 专利权人： 中国科学院兰州化学物理研究所
- 当前专利权人： 中国科学院兰州化学物理研究所
- 当前专利权人地址： 甘肃省兰州市城关区天水中路18号
- 代理机构： 兰州中科华西专利代理有限公司
- 代理商 方晓佳
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C14/06
摘要：
本发明属于真空镀膜技术领域，公开了一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置，该装置包括由偏压电源供电的工件盘以及由电源Ⅱ供电的磁控溅射靶，该磁控溅射靶的前方设有由电源Ⅲ供电的线圈。本发明还公开了一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的方法。本发明将高功率脉冲磁场和磁控溅射结合，提高了磁控溅射的灵活性、宽化了镀膜的工艺窗口。
公开/授权文献
- CN105200383A 一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法 公开/授权日：2015-12-30
IPC分类:
