发明授权
- 专利标题: C基多孔复合膜及其应用
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申请号: CN201410315753.1申请日: 2014-07-03
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公开(公告)号: CN105226223B公开(公告)日: 2018-05-18
- 发明人: 李先锋 , 张华民 , 徐万兴 , 段寅琦
- 申请人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 申请人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 代理机构: 沈阳科苑专利商标代理有限公司
- 代理商 马驰
- 主分类号: H01M2/16
- IPC分类号: H01M2/16 ; B32B27/08 ; B32B27/06 ; B32B27/30 ; B32B27/28
摘要:
本发明涉及一种C基多孔复合膜及其应用,以由有机高分子树脂中的一种或二种以上为原料制备而成的多孔膜为基体,在此基体的表面喷涂由炭黑和有机高分子树脂组成的一层薄层,制备形成复合膜;炭黑在薄层中所占的质量百分数为5~60%。该类复合膜制备方法简单,工艺环保,薄层厚度可控,离子选择性可调。与原多孔膜相比,复合膜具有较好的钒离子阻隔能力和离子传导性,以此组装的全钒液流储能电池具有更高的电池性能。
公开/授权文献
- CN105226223A C基多孔复合膜及其应用 公开/授权日:2016-01-06