吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法
摘要:
本发明涉及太阳光选择性吸收涂层领域,尤其是一种吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法,包括以下步骤:基底层清洗;采用镀膜方法在基底层上制备红外反射层;采用镀膜方法在红外反射层上制备吸收层;采用镀膜方法在吸收层上制备减反层;所述的吸收层自下而上依次包括金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层,所述金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层均采用镀膜方法依次制备。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层是由上述制备方法制备的。本发明公开的涂层制备工艺简单、镀膜设备所需条件要求低,适用于大规模低成本生产。
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