- 专利标题: 基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置
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申请号: CN201510638597.7申请日: 2015-09-29
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公开(公告)号: CN105355217B公开(公告)日: 2017-11-14
- 发明人: 丁晨良 , 魏劲松 , 周奇军
- 申请人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 申请人地址: 上海市800-211邮政信箱
- 专利权人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 当前专利权人地址: 上海市800-211邮政信箱
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 张泽纯; 张宁展
- 主分类号: G11B7/004
- IPC分类号: G11B7/004 ; G02B27/09 ; G02B27/10
摘要:
一种基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置,包括第一激光器、第二激光器、第一1/2波片、第二1/2波片、第一扩束镜、第二扩束镜、第一分光镜、第二分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、聚焦透镜、三棱镜,第一探测器和第二探测器,本发明将两束不同波长的光耦合到同一束光中,通过聚焦透镜产生轴向色差,聚焦于轴向不同位置,即光刻材料不同厚度处,实现轴向双焦点同时光刻。本发明可实现双光束同时存储,将存储的速度增加一倍,也将存储信息提高一倍,为多层光存储技术的推广运用提供基础。本发明还具有实时读取刻写信号系统,确保刻写的准确度。
公开/授权文献
- CN105355217A 基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置 公开/授权日:2016-02-24
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