发明公开
- 专利标题: 双面蚀刻水滴凸点式封装结构及其工艺方法
- 专利标题(英): Double-sided etching water drop salient point type package structure and process method thereof
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申请号: CN201510687057.8申请日: 2015-10-22
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公开(公告)号: CN105355567A公开(公告)日: 2016-02-24
- 发明人: 吴奇斌 , 吴靖宇 , 耿丛正 , 吴莹莹 , 吴涛 , 吕磊 , 郭峰
- 申请人: 长电科技(滁州)有限公司
- 申请人地址: 安徽省滁州市经济技术开发区城北工业园苏州路以西、世纪大道以北
- 专利权人: 长电科技(滁州)有限公司
- 当前专利权人: 长电科技(滁州)有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省滁州市经济技术开发区城北工业园苏州路以西、世纪大道以北
- 代理机构: 江阴市同盛专利事务所
- 代理商 唐纫兰; 沈国安
- 主分类号: H01L21/48
- IPC分类号: H01L21/48 ; H01L21/50 ; H01L21/60 ; H01L23/48
摘要:
本发明涉及一种双面蚀刻水滴凸点式封装结构,其特征在于:它包括基岛(1)和引脚(2),所述基岛(1)正面正装或倒装有芯片(3),所述基岛(1)外围的区域、基岛(1)和引脚(2)之间的区域、基岛(1)和引脚(2)上部的区域以及芯片(3)外均包封有塑封料(5),在所述基岛(1)和引脚(2)的背面分别设置有水滴凸点式外管脚(6)。本发明先将基板双面蚀刻形成管脚形状,进行封装步骤之后,最后不需要贴膜用直接蚀刻的方法将外管脚形成一种水滴凸点式外形结构,使得和PCB板焊接的时候锡膏顺利爬到管脚侧边,加强了管脚和PCB板的结合,避免焊接不牢的问题。
公开/授权文献
- CN105355567B 双面蚀刻水滴凸点式封装结构及其工艺方法 公开/授权日:2018-01-09
IPC分类: