发明授权
CN105355697B 一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池
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申请号: CN201510815200.7申请日: 2015-11-20
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公开(公告)号: CN105355697B公开(公告)日: 2017-11-24
- 发明人: 郭小伟 , 周勇 , 柳邦
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司
- 代理商 刘东
- 主分类号: H01L31/054
- IPC分类号: H01L31/054 ; H01L31/0445
摘要:
本发明涉及一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池,该陷光结构包括二维直角四棱锥形陷光硅层(4),所述二维直角四棱锥形陷光硅层(4)由微纳周期性且非完全对称的二维直角四棱锥阵列构成,其中单个周期的二维直角四棱锥的形状是:底面为正方形,一条棱边垂直于底面,与该棱边相邻的两个侧面均垂直于底面,另外两侧面倾斜于所述底面。本发明公开的陷光结构是具有较强的耦合特性,拥有宽光谱吸收增强、角度敏感性好的特点,吸收增强效果比传统倒金字塔等结构的效果更佳。
公开/授权文献
- CN105355697A 一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池 公开/授权日:2016-02-24
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