发明授权
- 专利标题: 一种碳纳米管薄膜晶体管及其制备方法
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申请号: CN201610011912.8申请日: 2016-01-08
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公开(公告)号: CN105428401B公开(公告)日: 2017-02-15
- 发明人: 田雪雁
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: H01L29/66
- IPC分类号: H01L29/66 ; H01L29/786 ; H01L21/336 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00
摘要:
本发明涉及一种碳纳米管薄膜晶体管,包括衬底,设置于衬底上的栅极,设置于栅极表面的有机绝缘层,设置于所述有机绝缘层上的半导体层,设置于所述半导体层上的源极和漏极,所述半导体层为依次设置的聚3-己基噻吩层和碳纳米管聚3-己基噻吩混合层,所述聚3-己基噻吩层设置于绝缘层与碳纳米管聚3-己基噻吩混合层之间。本发明的碳纳米管聚3-己基噻吩混合层中的半导体性碳纳米管的含量较高,基本避免了含有金属性碳纳米管,保证了薄膜晶体管的电学性能。而且,所述碳纳米管聚3-己基噻吩混合层与所述聚3-己基噻吩层通过π-π键连接,形成碳纳米管薄膜晶体管的半导体层立体通道,从而使制得的碳纳米管薄膜晶体管具有了较高的电学性能。
公开/授权文献
- CN105428401A 一种碳纳米管薄膜晶体管及其制备方法 公开/授权日:2016-03-23
IPC分类: