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发明授权
CN105448862B 半导体结构及其制作方法 有权

半导体结构及其制作方法
摘要：
一种半导体结构及其制作方法，其中半导体结构的制作方法包括：提供第一晶圆以及第二晶圆，第一晶圆内形成有第一金属层，第二晶圆内形成有第二金属层；在第一晶圆表面形成第一材料层；在第二晶圆表面形成第二材料层；对所述第一晶圆与第二晶圆进行对准处理以及键合处理，使第一材料层与第二材料层对准且表面相接触；在进行键合处理后，对所述第一材料层以及第二材料层进行加热处理，使第一材料层以及第二材料层相互熔融，提高第一金属层与第二金属层之间的对准精度。本发明利用第一材料层以及第二材料层相互熔融产生的表面张力，使第一材料层和第二材料层相互拉近，从而提高第一金属层和第二金属层之间的对准精度，减小键合偏移。
摘要（英）：

Semiconductor structure and fabrication methods are provided. The semiconductor structure includes a first wafer having a first metal layer therein and having a first material layer thereon, and a second wafer having a second metal layer therein and having a second material layer thereon. An alignment process and a bonding process are preformed between the first wafer and the second wafer, such that the first material layer and the second material layer are aligned and in contact with one another to provide a first alignment accuracy between the first metal layer and second metal layer. A heating process is performed on the first material layer and the second material layer to melt the first material layer and the second material layer to provide a second alignment accuracy between the first metal layer and second metal layer. The second alignment accuracy is greater than the first alignment accuracy.

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