发明授权
CN105473328B 用于生产包括三元合金的低辐射玻璃的涂层系统、方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 用于生产包括三元合金的低辐射玻璃的涂层系统、方法和装置
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申请号： CN201480027773.7申请日： 2014-03-12
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公开(公告)号： CN105473328B公开(公告)日： 2017-11-17
- 发明人: G·Z·张 , B·博伊斯 , J·成 , M·伊姆兰 , G·W·丁 , M·H·乐 , D·施瓦格特 , Y·L·许
- 申请人： 分子间公司 , 葛迪恩实业公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 分子间公司,葛迪恩实业公司
- 当前专利权人： 分子间公司,葛迪恩实业公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京鸿元知识产权代理有限公司
- 代理商 陈英俊
- 优先权： 61/778,758 2013.03.13 US
- 国际申请： PCT/US2014/024149 2014.03.12
- 国际公布： WO2014/159553 EN 2014.10.02
- 进入国家日期： 2015-11-13
- 主分类号： B32B15/04
- IPC分类号： B32B15/04
摘要：
在此公开的系统、方法，和设备用于形成低辐射板，其可包括基片和反射层，被形成在所述基片上。所述低辐射板可进一步包括顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶部介质层和所述基片之间。所述顶部介质层可包括三元金属氧化物，如锌锡铝氧化物。所述顶部介质层也可包括铝。所述铝浓度的原子百分比为1％‑15％，或为2％‑10％。锌对锡的原子比可为0.67‑1.5，或为0.9‑1.1。
公开/授权文献
- CN105473328A 用于生产包括三元合金的低辐射玻璃的涂层系统、方法和装置 公开/授权日：2016-04-06
