发明公开
- 专利标题: 卷对卷柔性衬底光刻方法和装置
- 专利标题(英): Photoetching method and device of roll to roll flexible substrate
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申请号: CN201610098275.2申请日: 2016-02-24
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公开(公告)号: CN105549340A公开(公告)日: 2016-05-04
- 发明人: 陈龙龙 , 张建华 , 李喜峰 , 张帅 , 黄霏
- 申请人: 上海大学
- 申请人地址: 上海市宝山区上大路99号
- 专利权人: 上海大学
- 当前专利权人: 上海大学
- 当前专利权人地址: 上海市宝山区上大路99号
- 代理机构: 上海上大专利事务所
- 代理商 顾勇华
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明公开了一种卷对卷柔性衬底光刻方法和装置,通过对曝光紫外线传输路径及曝光方式进行设计,从而实现柔性衬底的光刻,而不需要传统柔性衬底需贴附在玻璃基板上光刻以及工艺最后的衬底剥离等工艺步骤,一方面节省了工艺设备成本,另一方面提高生产的良率与生产节拍,本发明制作工艺简单,能有效提高生产节拍,在更低的生产成本的条件下,实现柔性衬底的快速和高质量光刻制造。本发明装置主要由紫外光源、柔性衬底传送系统和光刻胶涂布装置组成,结构简单,使用方便,便于维护和制造。
公开/授权文献
- CN105549340B 卷对卷柔性衬底光刻方法和装置 公开/授权日:2017-10-24