Invention Publication
- Patent Title: 薄膜的制造方法、透明导电膜
- Patent Title (English): Thin film production method and transparent conductive film
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Application No.: CN201480052051.7Application Date: 2014-10-22
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Publication No.: CN105555424APublication Date: 2016-05-04
- Inventor: 西康孝 , 中积诚
- Applicant: 株式会社尼康
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 庞东成; 褚瑶杨
- Priority: 2013-225549 2013.10.30 JP
- International Application: PCT/JP2014/078064 2014.10.22
- International Announcement: WO2015/064438 JA 2015.05.07
- Date entered country: 2016-03-22
- Main IPC: B05D7/24
- IPC: B05D7/24 ; B05D1/12 ; B05D3/06 ; C01G9/02 ; C01G19/00 ; H01B5/14 ; H01B13/00

Abstract:
本发明目的在于提供一种代替现有技术的新方法作为得到薄膜的技术。本发明的薄膜的制造方法的特征在于,其具有:使含有微粒的分散液雾化的雾化工序;将经雾化的所述分散液供给至基板的供给工序;使供给至所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。
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