发明授权
- 专利标题: 平面膜片钳装置以及平面膜片钳系统
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申请号: CN201480048002.6申请日: 2014-08-29
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公开(公告)号: CN105555945B公开(公告)日: 2018-05-04
- 发明人: 宇理须恒雄 , 王志宏 , 宇野秀隆 , 长冈靖崇 , 小林启
- 申请人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 申请人地址: 日本埼玉县
- 专利权人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 当前专利权人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 当前专利权人地址: 日本埼玉县
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘文海
- 优先权: 2013-180684 2013.08.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/072808 2014.08.29
- 国际公布: WO2015/030201 JA 2015.03.05
- 进入国家日期: 2016-02-29
- 主分类号: C12M1/42
- IPC分类号: C12M1/42 ; C12Q1/02 ; G01N21/78
摘要:
一种平面膜片钳装置,具有:电绝缘性基板(2),其在细胞配置区域(4)内具有不使细胞通过但能够使液体通过的贯通孔(3);第一贮液部(6),其以能够与贯通孔(3)连通的方式设置在基板(2)的第一表面(2S)侧,且保持第一导电性液体;第一电极部(7),其配置为能够与第一贮液部(6)电导通;第二贮液部(6′),其以能够与贯通孔(3)连通的方式设置在基板(2)的第二表面(2S′)侧,且保持第二导电性液体;第二电极部(7′),其配置为能够与第二贮液部(6′)电导通;送液流路(8),其向第二贮液部(6′)输送第二导电性液体;排液流路(9),其从第二贮液部(6′)排出第二导电性液体;以及阀(10),其设置于送液流路(8)以及/或者排液流路(9),能够允许或者停止第二导电性液体的流通,并且能够允许或者停止第二贮液部(6′)与第二电极部(7′)的电导通。
公开/授权文献
- CN105555945A 平面膜片钳装置以及平面膜片钳系统 公开/授权日:2016-05-04