- 专利标题: 钝化铜铟镓硒薄膜表面缺陷的电化学处理方法
-
申请号: CN201410619934.3申请日: 2014-11-06
-
公开(公告)号: CN105633201B公开(公告)日: 2017-06-16
- 发明人: 叶勤燕 , 梅军 , 廖成 , 刘江 , 何绪林 , 刘焕明
- 申请人: 中物院成都科学技术发展中心
- 申请人地址: 四川省成都市青羊区八宝街90号
- 专利权人: 中物院成都科学技术发展中心
- 当前专利权人: 中物院成都科学技术发展中心
- 当前专利权人地址: 四川省成都市青羊区八宝街90号
- 代理机构: 四川力久律师事务所
- 代理商 曹晋玲; 刘雪莲
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18
摘要:
本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开了钝化铜铟镓硒薄膜表面缺陷的电化学处理方法,包括步骤:铜铟镓硒薄膜硒化后置于电化学工作站,仅Mo层连接工作电极,在无水乙醇中浸泡1~2min,去除表面颗粒杂质;配制处理溶液,所述处理溶液为乙基紫精二高氯酸盐、六氟磷酸四丁胺和有机溶剂的混合溶液;将步骤(1)处理后的铜铟镓硒薄膜放入步骤(2)制得的处理溶液中,施加电信号,1~300s后取出,用无水乙醇冲洗所述铜铟镓硒薄膜表面的残留溶液,电信号为循环伏安电信号、恒压电信号或恒流电信号的任一种。本发明的方法能够有效除去铜铟镓硒薄膜表面的缺陷,降低界面处光生载流子对的复合率,不会对薄膜造成污染。
公开/授权文献
- CN105633201A 钝化铜铟镓硒薄膜表面缺陷的电化学处理方法 公开/授权日:2016-06-01
IPC分类: