发明授权
- 专利标题: TFT基板的制作方法
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申请号: CN201610011881.6申请日: 2016-01-07
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公开(公告)号: CN105679764B公开(公告)日: 2019-02-19
- 发明人: 王威 , 李安石
- 申请人: 武汉华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 代理机构: 深圳市德力知识产权代理事务所
- 代理商 林才桂
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L23/60 ; H01L21/77
摘要:
本发明提供一种TFT基板的制作方法,通过在栅极扫描线的侧边形成防静电凸块,之后在层间绝缘层上形成对应所述防静电凸块上方的第二过孔,从而在沉积源漏极金属层后,所述源漏极金属层通过第二过孔与所述栅极扫描线侧边的防静电凸块相接触,由于所述栅极扫描线连接第一、第二栅极,从而所述源漏极金属层与所述第一、第二栅极相连接,同时所述源漏极金属层还与多晶硅层相连接,从而使得多晶硅层与第一、第二栅极之间的电压为零,不仅能够确保在源漏极金属层的成膜过程中不会发生静电放电现象,而且能够有效降低在源漏极金属层的光刻制程完成前静电放电现象的发生率。
公开/授权文献
- CN105679764A TFT基板的制作方法 公开/授权日:2016-06-15