发明授权
- 专利标题: 防伪介质以及防伪介质的制造方法
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申请号: CN201580002372.0申请日: 2015-03-26
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公开(公告)号: CN105682934B公开(公告)日: 2018-01-09
- 发明人: 大川美保子 , 落合英树 , 市川浩二 , 小手川雄树
- 申请人: 凸版印刷株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人: 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 何立波; 张天舒
- 优先权: 2014-063729 2014.03.26 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/059402 2015.03.26
- 国际公布: WO2015/147176 JA 2015.10.01
- 进入国家日期: 2016-04-26
- 主分类号: G02B5/30
- IPC分类号: G02B5/30 ; G02F1/1335 ; G02B5/02 ; G02B5/32 ; B42D25/40
摘要:
防伪介质具有记录介质和在记录介质上的一部分处配置的偏光面层。在偏光面层上利用低消光比区域而形成图像,该低消光比区域是与偏光面层中的除了低消光比区域以外的部分相比,偏光面的消光比低的区域。在记录介质上利用记录介质的一部分而形成图像,该记录介质的一部分是与记录介质中的除了一部分以外的部分性质不同的部分。
公开/授权文献
- CN105682934A 防伪介质以及防伪介质的制造方法 公开/授权日:2016-06-15