发明公开
- 专利标题: 一种基于渗透原理产生汞与二价汞标准气的装置
- 专利标题(英): Device for producing mercury and bivalent mercury standard gas based on penetration principle
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申请号: CN201610147074.7申请日: 2016-03-15
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公开(公告)号: CN105699146A公开(公告)日: 2016-06-22
- 发明人: 孙漪清 , 陈锋 , 刘清侠 , 徐波 , 刘秀如 , 赵勇 , 翟燕萍 , 许壮 , 薛方明 , 苏靖程 , 李凌月
- 申请人: 中国华电集团科学技术研究总院有限公司
- 申请人地址: 北京市昌平区科技园区超前路9号B座2330室
- 专利权人: 中国华电集团科学技术研究总院有限公司
- 当前专利权人: 中国华电集团科学技术研究总院有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区科技园区超前路9号B座2330室
- 代理机构: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司
- 代理商 李敏
- 主分类号: G01N1/28
- IPC分类号: G01N1/28 ; G01N1/38 ; C01G13/02 ; C01G13/04
摘要:
本发明公开了一种基于渗透原理产生汞与二价汞标准气的装置,包括元素汞标准气体发生系统,其包括通过管路顺次连接的第一载气装置和产生汞气体的元素汞发生器,还包括二价汞标准气体发生系统,其包括通过管路顺次连接的等离子气源装置、气体预混室和产生二价汞气体的二价汞发生器,所述气体预混室还与所述元素汞发生器的出口相连接,用以将等离子气源与元素汞发生器产生的含汞气体混合,所述二价汞发生器设置有高频高压交流电源发生装置,用以产生等离子体将汞气体氧化为二价汞气体,同时得到元素汞标准气体和二价汞标准气体,采用同一个汞源,避免采用不同的汞源因汞源不一致需要进行两次溯源传递的问题,简化了操作步骤。