Invention Grant
- Patent Title: 涡旋型流体设备
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Application No.: CN201480059433.2Application Date: 2014-10-29
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Publication No.: CN105705792BPublication Date: 2017-07-28
- Inventor: 饭塚二郎
- Applicant: 三电控股株式会社
- Applicant Address: 日本群马县
- Assignee: 三电控股株式会社
- Current Assignee: 三电株式会社
- Current Assignee Address: 日本群马县
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 韩俊
- Priority: 2013-225021 20131030 JP
- International Application: PCT/JP2014/078710 2014.10.29
- International Announcement: WO2015/064612 JA 2015.05.07
- Date entered country: 2016-04-28
- Main IPC: F04C18/02
- IPC: F04C18/02 ; F04C29/00 ; F04C29/06
Abstract:
提供一种涡旋型流体设备,能减小自转阻止机构的PV值,并且能以低成本抑制杂音的产生。使动涡盘构件(3)的自转阻止机构(30)包括形成在动涡盘构件(3)的端板(2a)一侧的圆形孔(31)、突出设置在前外壳(7)的推力承接部(17)一侧的销(32)、具有偏心孔(33a)且隔着间隙收容在圆形孔(31)中的圆板(33),使销(32)隔着间隙地嵌合在偏心孔(33a)中,将由定涡盘构件(2)和动涡盘构件(3)的两个缠绕件(2b、3b)之间的接触确定的动涡盘构件(3)的回旋半径(AOR)、由圆形孔(31)与圆板(33)间的间隙以及偏心孔(33a)与销(32)间的间隙确定的动涡盘的最大容许回旋半径(LPOR)和最小容许回旋半径(SPOR)设置成满足SPOR<AOR<LPOR的关系。
Public/Granted literature
- CN105705792A 涡旋型流体设备 Public/Granted day:2016-06-22
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