发明公开
- 专利标题： 单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法
- 专利标题（英）： Monomer, Polymer, Resist Composition, And Patterning Process
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申请号： CN201510955723.1申请日： 2015-12-18
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公开(公告)号： CN105717744A公开(公告)日： 2016-06-29
- 发明人: 提箸正义 , 长谷川幸士 , 片山和弘 , 畠山润
- 申请人： 信越化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 杜丽利
- 优先权： 2014-256295 2014.12.18 JP; 2015-179394 2015.09.11 JP
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; C08F220/28 ; C08F220/32 ; C08F220/38 ; C07C69/533 ; C07C69/54
摘要：
提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
公开/授权文献
- CN105717744B 单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 公开/授权日：2020-10-23
IPC分类:
