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发明授权
CN105729296B 化学机械抛光垫、抛光层分析器和方法 失效 - 权利终止

化学机械抛光垫、抛光层分析器和方法
摘要：
提供一种化学机械抛光垫、抛光层分析器，其中所述分析器经配置以检测聚合薄片的宏观不均匀性并且将所述聚合薄片分类成可接受或待检。
摘要（英）：

The invention provides a chemical mechanical polishing pad and a polishing layer analyzer, wherein the analyzer is configured for detecting macroscopic inhomgeneity of polymeric sheets and classifying the polymeric sheets to acceptable and to-be-checked.

公开/授权文献
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