- 专利标题: 一种利用原子层沉积包覆层降低锆粉静电火花感度的方法
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申请号: CN201610228036.4申请日: 2016-04-13
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公开(公告)号: CN105750541B公开(公告)日: 2018-10-12
- 发明人: 冯昊 , 秦利军 , 龚婷 , 闫宁 , 李建国 , 惠龙飞 , 郝海霞 , 姜菡雨
- 申请人: 西安近代化学研究所
- 申请人地址: 陕西省西安市雁塔区丈八东路168号
- 专利权人: 西安近代化学研究所
- 当前专利权人: 西安近代化学研究所
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市雁塔区丈八东路168号
- 代理机构: 中国兵器工业集团公司专利中心
- 代理商 梁勇
- 主分类号: B22F1/02
- IPC分类号: B22F1/02 ; C23C16/455
摘要:
本发明公开了一种利用原子层沉积包覆层降低锆粉静电火花感度的方法。该气相沉积方法使两种反应前躯体交替通过反应腔,在锆粉颗粒表面发生化学反应生成无机、无机‑有机或有机包覆层。包覆层完整、均匀的覆盖了锆粉颗粒的全部外表面,其厚度在纳米尺度范围内精确可调。该方法适用于对微米、纳米或毫米级锆粉颗粒进行包覆,当包覆层厚度被控制在纳米尺度范围内时,其含量仅占体系总质量的0.1%~7.5%,对锆粉的能量影响较小。采用本发明方法包覆的锆粉,其静电火花感度较之未包覆锆粉显著降低,极大程度的提高了锆粉的安全性能。该方法自动化程度高,安全性能好,锆粉颗粒包覆完成后无需后处理即可直接使用,易于在工业上实现和推广。
公开/授权文献
- CN105750541A 一种利用原子层沉积包覆层降低锆粉静电火花感度的方法 公开/授权日:2016-07-13