- 专利标题: 含位阻的碳化二亚胺类低聚物及其制备方法和应用
- 专利标题(英): Carbodiimide oligomer containing steric hindrance, and preparation method and application of carbodiimide oligomer
-
申请号: CN201410843953.4申请日: 2014-12-25
-
公开(公告)号: CN105778026A公开(公告)日: 2016-07-20
- 发明人: 殷延开 , 项超力 , 唐劲松 , 吴淑航 , 周静
- 申请人: 上海华峰新材料研发科技有限公司
- 申请人地址: 上海市金山区月工路1369号2幢101室
- 专利权人: 上海华峰新材料研发科技有限公司
- 当前专利权人: 上海华峰新材料研发科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市金山区月工路1369号2幢101室
- 代理机构: 上海金盛协力知识产权代理有限公司
- 代理商 罗大忱
- 主分类号: C08G18/02
- IPC分类号: C08G18/02 ; C08L79/00 ; C08L75/06 ; C08G18/66 ; C08G18/42 ; C08G18/32
摘要:
本发明公开了一种含位阻的碳化二亚胺类低聚物及其制备方法和应用,所述含位阻的碳化二亚胺类低聚物,本发明原料便宜,制备方法简单,因此生产成本较低,可在聚氨酯工业中大量应用,作为抗水解稳定剂可以让聚氨酯产品水解三周(条件为70℃,95%相对湿度)后物性(即拉伸断裂强度)保持80%以上;本发明解决了现有技术中的聚碳化二亚胺类产品无论熔点高低,其价格都异常昂贵的缺陷,便于推广应用,含位阻的碳化二亚胺类低聚物为式(V)所示的无规共聚物:
公开/授权文献
- CN105778026B 含位阻的碳化二亚胺类低聚物及其制备方法和应用 公开/授权日:2018-11-20