- 专利标题: 苯并双(噻二唑)衍生物、含有其的油墨及含有其的有机电子装置
- 专利标题(英): Benzobis(thiadiazole) derivative, ink containing same, and organic electronic device using same
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申请号: CN201480063334.1申请日: 2014-08-29
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公开(公告)号: CN105793269A公开(公告)日: 2016-07-20
- 发明人: 时任静士 , 熊木大介 , 尽田正史 , 福田宪二郎 , 田中康裕 , 岛秀好 , 米田康洋 , 藤田阳师 , 垣田一成 , 小俣洋治 , 山田奈津子 , 本间贵志 , 町田利一
- 申请人: 宇部兴产株式会社
- 申请人地址: 日本山口县宇部市
- 专利权人: 宇部兴产株式会社
- 当前专利权人: 未来油墨株式会社
- 当前专利权人地址: 日本山口县宇部市
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 彭雪瑞; 臧建明
- 优先权: 2013-196221 2013.09.20 JP; 2014-026969 2014.02.14 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/072839 2014.08.29
- 国际公布: WO2015/041026 JA 2015.03.26
- 进入国家日期: 2016-05-19
- 主分类号: C07D513/04
- IPC分类号: C07D513/04 ; H01L29/786 ; H01L51/05 ; H01L51/30 ; H01L51/46 ; H01L51/50
摘要:
本发明涉及由以下通式(1)表示的苯并双(噻二唑)衍生物。(在该式中:R1代表直链或支链的烷基,或由式(2)表示的任一基团;R2代表氢原子;R3代表氢原子、直链或支链的烷基,或由式(2)表示的任一基团;R1和R3中至少一个代表由式(2)表示的基团中的一个;两个R1基团、两个R2基团和两个R3基团可以彼此相同或不同。)(在式(2)中,R代表直链或支链的烷基)
公开/授权文献
- CN105793269B 苯并双(噻二唑)衍生物、含有其的油墨及含有其的有机电子装置 公开/授权日:2018-01-09