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发明授权
CN105801787B 一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶 有权 转让

  • 专利标题： 一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶
  • 申请号： CN201610259070.8
    申请日： 2016-04-25
  • 公开(公告)号： CN105801787B
    公开(公告)日： 2018-05-22
  • 发明人: 宋芳
  • 申请人： 宋芳
  • 申请人地址： 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区慈溪路24号
  • 专利权人： 宋芳
  • 当前专利权人： 张朝威
  • 当前专利权人地址： 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区慈溪路24号
  • 代理机构： 淮安市科文知识产权事务所
  • 代理商 谢观素
  • 主分类号： C08G14/04
  • IPC分类号： C08G14/04 ;  C08G14/12 ;  G03F7/012
一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶
摘要：
本发明公开了一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶，所述光敏剂具有如下结构通式：用该光敏剂制备的光刻胶，具有化学稳定性好、抗腐蚀好、抗高温等突出优点。
摘要（英）：

The invention discloses a photosensitizer with a macromolecular structure and a preparation method thereof as well as a photoresist prepared from the photosensitizer. The photosensitizer has the following structural formula shown as in the description. The photoresist prepared from the photosensitizer has the prominent advantages of good chemical stability, good corrosion resistance, high temperature resistance and the like.

公开/授权文献
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