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发明授权
CN105829022B 抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品 有权

  • 专利标题： 抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品
  • 申请号： CN201480069189.8
    申请日： 2014-12-18
  • 公开(公告)号： CN105829022B
    公开(公告)日： 2019-05-28
  • 发明人: 山原通宏
  • 申请人： 3M创新有限公司
  • 申请人地址： 美国明尼苏达州
  • 专利权人： 3M创新有限公司
  • 当前专利权人： 3M创新有限公司
  • 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州
  • 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
  • 代理商 顾红霞; 彭会
  • 优先权： 2013-263590 2013.12.20 JP
  • 国际申请： PCT/US2014/071095 2014.12.18
  • 国际公布： WO2015/095489 EN 2015.06.25
  • 进入国家日期： 2016-06-17
  • 主分类号： B24B37/22
  • IPC分类号： B24B37/22
抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品
摘要：
本发明公开了一种用于利用单个抛光设备来实现多种类型的抛光的抛光垫。根据一个实施方案的抛光垫包括：面向抛光构件和支撑构件中的一者的第一外层；面向抛光构件和支撑构件中的另一者的第二外层；定位在第一外层与第二外层之间的内层；以及形成于第二外层中、内层能够进入的多个空间。内层的硬度既低于第一外层的硬度又低于第二外层的硬度。
摘要（英）：

A polishing cushion for realizing a plurality of types of polishing with a single polishing apparatus. A polishing cushion according to one embodiment includes a first outer layer facing one out of a polishing member and a support member, a second outer layer facing the other out of the polishing member and the support member, an inner layer positioned between the first outer layer and the second outer layer; and a plurality of spaces formed in the second outer layer which the inner layer is able to enter. The hardness of the inner layer is lower than both of the hardness of the first outer layer and the hardness of the second outer layer.

公开/授权文献
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