发明授权
- 专利标题: 用于后光学邻近修正修复的方法
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申请号: CN201510018670.0申请日: 2015-01-14
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公开(公告)号: CN105842977B公开(公告)日: 2020-03-10
- 发明人: 杜杳隽
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 代理机构: 北京市磐华律师事务所
- 代理商 董巍; 高伟
- 主分类号: G03F1/36
- IPC分类号: G03F1/36
摘要:
本发明提供一种用于后光学邻近修正修复的方法。所述方法包括:第一步骤:基于所述后光学邻近修正修复之前的光学邻近修正过程所产生的错误标记形成局部修正区域;以及第二步骤:在所述局部修正区域内实施局部光学邻近修正,直到不再产生错误标记。本发明所提供的用于后光学邻近修正修复的方法基于局部修正区域进行后光学邻近修正,可以大大减少运算量,提高效率。
公开/授权文献
- CN105842977A 用于后光学邻近修正修复的方法 公开/授权日:2016-08-10