一种参与介质中的无偏光子映射绘制方法
摘要:
本发明公开了一种参与介质中的无偏光子映射绘制方法,本发明从子路径采样技术改进、理论公式改造、无偏项估计的重要性采样、介质边界情况讨论等方面来对无偏光子聚集方法进行改进,使得在参与介质的场景中始终得到无偏的绘制结果。本发明还将多重重要性采样的权重进行了改进,从而将参与介质上的无偏光子映射方法与双向光线跟踪技术相结合,使得可以同时发挥两种方法在不同情景下的优势。
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