一种高Al含量的AlTiN复合涂层及制备方法
摘要:
本发明涉及纳米复合涂层及其制备技术,具体地说是一种高Al含量的AlTiN纳米复合涂层的制备工艺。采用电弧离子镀技术在金属或硬质合金基体上制备AlTiN纳米复合涂层。为更好地调控涂层中Al元素和Ti元素的含量,选用纯金属Al和Ti(纯度均为99.9 wt.%,直径均为80 mm)作为靶材。纯Ti靶和Al靶各4个,相间地均匀分布在炉体内壁上,提高镀膜均匀性。镀膜前先通入Ar气,开启Ti靶,并对基体表面进行轰击清洗10~30 min,然后沉积金属Ti过渡层,最后再通入反应气体N2,将Ti和Al靶同时起辉,沉积AlTiN涂层。本发明涉及的AlTiN纳米复合涂层制备工艺简单,重复性好,并且容易工业化生产;制备出的AlTiN涂层具有较高的硬度和强度,良好的耐高温氧化性能和耐蚀性能,组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
公开/授权文献
0/0