利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN105917485A 用于形成具有工程化空隙的制品的叠层转印膜 有权

用于形成具有工程化空隙的制品的叠层转印膜
摘要：
本公开涉及一种转印膜，所述转印膜包括具有第一表面和第二表面的牺牲模板层，所述第二表面具有与所述第一表面相对的结构化表面；适形于所述牺牲模板层的所述结构化表面的热稳定回填层，并且其中靠近所述第一表面的所述牺牲模板层的一部分比靠近所述第二表面的所述牺牲模板层的一部分具有更大的热稳定分子种类浓度。
摘要（英）：

The present disclosure relates to a transfer film comprising a sacrificial template layer having a first surface and a second surface having a structured surface opposite the first surface, a thermally stable backfill layer conforming to the structured surface of the sacrificial template layer, and wherein a portion of the sacrificial template layer proximate the first surface has a greater concentration of a thermally stable molecular species than a portion of the sacrificial template layer proximate the second surface.

公开/授权文献
0/0