发明授权
- 专利标题: 真空阀及其制造方法
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申请号: CN201580005420.1申请日: 2015-01-07
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公开(公告)号: CN105934808B公开(公告)日: 2017-10-31
- 发明人: 浅利直纪 , 佐藤纯一 , 塩入哲 , 关森裕希
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 吴宗颐
- 优先权: 2014-011101 2014.01.24 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/000041 2015.01.07
- 国际公布: WO2015/111372 JA 2015.07.30
- 进入国家日期: 2016-07-22
- 主分类号: H01H33/662
- IPC分类号: H01H33/662
摘要:
本发明的真空阀具有:由氧化铝陶瓷制成的筒状的真空绝缘容器(1)、密封真空绝缘容器(1)的两端开口部的密封金属零件(2、3)、收纳在真空绝缘容器(1)中的接触分离自由的一对接点(5、6)。真空绝缘容器(1)具有:氧化铝基材层(1c)、通过再加热而设置在基材层(1c)的内外周表面的促进氧结合的氧化促进层(1a、1b)。通过氧化促进层(1a、1b),氧结合缺少的氧缺少部被修复,抑制真空绝缘容器(1)的带电。
公开/授权文献
- CN105934808A 真空阀及其制造方法 公开/授权日:2016-09-07