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发明公开
CN105948533A 一种高强度宽带减反膜的制备方法 有权

  • 专利标题： 一种高强度宽带减反膜的制备方法
  • 专利标题（英）： Production method of high-strength broadband anti-reflection film
  • 申请号： CN201610285617.1
    申请日： 2016-05-03
  • 公开(公告)号： CN105948533A
    公开(公告)日： 2016-09-21
  • 发明人: 陈若愚 , 包蕾 , 王红宁 , 钟璟 , 刘小华
  • 申请人： 常州大学
  • 申请人地址： 江苏省常州市武进区滆湖路1号
  • 专利权人： 常州大学
  • 当前专利权人： 常州大学
  • 当前专利权人地址： 江苏省常州市武进区滆湖路1号
  • 主分类号： C03C17/34
  • IPC分类号： C03C17/34
一种高强度宽带减反膜的制备方法
摘要：
本发明属于光学薄膜材料领域，特别涉及一种新型高强度宽带减反膜及其制备方法。该方法用溶胶‑凝胶法，提拉法镀制了两层薄膜，下层是SiO2实心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，上层是SiO2空心球和羟基增强的链状硅溶胶组成的薄膜，利用提拉速度控制两层薄膜的膜厚，经高温煅烧后，得到400‑1200nm平均透光率达到99％，硬度达到5H的双层宽带减反膜。
摘要（英）：

The invention belongs to the field of optical film materials, and especially relates to a novel high-strength broadband anti-reflection film and a production method thereof. The method comprises the following steps: coating with two films through a sol-gel technology and a czochralski technology, wherein the lower film is composed of SiO2 solid spheres and hydroxyl group reinforced chain-shaped silica sol, the upper film is composed of SiO2 hollow spheres and hydroxyl group reinforced chain-shaped silica sol, and the thickness of every film is controlled through using the czochralski speed; and carrying out high temperature calcining to obtain the 400-1200nm double-layer broadband anti-reflection film with the average light transmittance of 99% and the hardness of 5H.

公开/授权文献
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