Invention Grant
- Patent Title: 阵列基板母板及其制作方法、显示装置
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Application No.: CN201610274032.XApplication Date: 2016-04-28
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Publication No.: CN105957867BPublication Date: 2018-12-18
- Inventor: 王静 , 郭会斌 , 丁向前 , 白金超 , 刘耀
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 黄灿; 张博
- Main IPC: H01L27/12
- IPC: H01L27/12 ; H01L21/77
Abstract:
本发明提供了一种阵列基板母板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,阵列基板母板的制作方法,至少包括在衬底基板的第一区域形成第一显示产品的膜层图形和在衬底基板的第二区域形成第二显示产品的膜层图形,所述第一显示产品的深孔密度大于所述第二显示产品的深孔密度,深孔为贯穿至少两层绝缘层的过孔,所述制作方法包括:在绝缘层上形成第二导电图形之前,减小第一区域所述绝缘层的厚度,所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔结构与位于所述绝缘层下的第一导电图形连接。通过本发明的技术方案,在阵列基板上形成不同显示产品的膜层图形时,能够避免出现Mura不良。
Public/Granted literature
- CN105957867A 阵列基板母板及其制作方法、显示装置 Public/Granted day:2016-09-21
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IPC分类: