发明公开
CN105977143A 形成p型扩散层的组合物和方法,及制备光伏电池的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 形成p型扩散层的组合物和方法,及制备光伏电池的方法
- 专利标题(英): Composition for forming p-type diffusion layer, method for forming p-type diffusion layer, and method for producing photovoltaic cell
-
申请号: CN201610524236.4申请日: 2011-01-25
-
公开(公告)号: CN105977143A公开(公告)日: 2016-09-28
- 发明人: 町井洋一 , 吉田诚人 , 野尻刚 , 冈庭香 , 岩室光则 , 足立修一郎
- 申请人: 日立化成工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日立化成工业株式会社
- 当前专利权人: 日立化成工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 牛海军
- 优先权: 2010-022462 2010.02.03 JP; 2011-005312 2011.01.13 JP
- 分案原申请号: 2011100310979 2011.01.25
- 主分类号: H01L21/22
- IPC分类号: H01L21/22 ; H01L21/223 ; H01L31/068 ; H01L31/18
摘要:
本发明提供一种用于形成p型扩散层的组合物和方法,以及一种用于制备光伏电池的方法。所述组合物在使用硅基板制备光伏电池的工艺过程中能够形成p型扩散层,而不引起硅基板中的内应力和基板的翘曲。根据本发明的用于形成p型扩散层的组合物含有含受体元素的玻璃粉末和分散介质。p型扩散层和具有p型扩散层的光伏电池通过下列方法制备:涂敷用于形成p型扩散层的组合物,随后进行热扩散处理。
公开/授权文献
- CN105977143B 形成p型扩散层的组合物和方法,及制备光伏电池的方法 公开/授权日:2018-03-30
IPC分类: