发明授权
- 专利标题: 基底形成用涂料的选定方法和修补涂装方法
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申请号: CN201610230391.5申请日: 2016-04-14
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公开(公告)号: CN106040565B公开(公告)日: 2020-03-13
- 发明人: 西泽安明 , 平野昌典 , 松浦好信
- 申请人: 关西涂料株式会社
- 申请人地址: 日本兵库县
- 专利权人: 关西涂料株式会社
- 当前专利权人: 关西涂料株式会社
- 当前专利权人地址: 日本兵库县
- 代理机构: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 洪欣
- 优先权: 2015-083644 2015.04.15 JP
- 主分类号: B05D7/14
- IPC分类号: B05D7/14
摘要:
本发明提供基底形成用涂料的选定方法、使用由该方法选定的基底形成用涂料的修补涂装方法,基底形成用涂料是用于形成设于修补用着色基质涂膜之下的基底层的最适合的涂料,在涂装次数少的情况下也可获得具备目标涂膜外观的复层修补涂膜。上述选定方法的特征在于,基底形成用涂料用于形成设于着色基质涂膜之下的基底层,着色基质涂膜由用于修补设有着色基质固化涂膜的涂装体的损伤部的修补用着色基质涂料形成;基底形成用涂料从三种基底形成用涂料(A1)~(A3)所构成的彼此不同的多种基底形成用涂料组中选定,所形成的基底层的光谱反射率平均值与作为修补对象的着色基质固化涂膜的光谱反射率的平均值之差的绝对值最小。
公开/授权文献
- CN106040565A 基底形成用涂料的选定方法和修补涂装方法 公开/授权日:2016-10-26