本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，包括：将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2μm～5um厚的黑胶后，使用烤箱将耐高温柔性薄膜表干；对表干的耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；对镀有金属屏蔽层涂的一侧涂5μm～8μm厚用于吸收电磁波的导电胶层；所述导电胶为重量比为50～52的HY‑181胶水、5～6的镍粉、28～30的铁基合金粉末和溶剂的混合物。所述电磁屏蔽膜的制作方法，可连续高效的生产10μm～50μm厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ～10GHZ之间实现超过60db以上的屏蔽效果，工艺稳定、操作简单。