- 专利标题: 一种同步去除氰、铬的深度处理电镀污水的方法
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申请号: CN201610624755.8申请日: 2016-08-03
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公开(公告)号: CN106116042B公开(公告)日: 2019-04-30
- 发明人: 李为
- 申请人: 杭州富阳佳畅机械有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市富阳区新登镇五里桥村
- 专利权人: 杭州富阳佳畅机械有限公司
- 当前专利权人: 杭州富阳佳畅机械有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市富阳区新登镇五里桥村
- 主分类号: C02F9/14
- IPC分类号: C02F9/14 ; C12N1/20 ; C02F103/16 ; C02F101/18 ; C02F101/22 ; C12R1/01 ; C12R1/14
摘要:
本发明涉及一种同步去除氰、铬的深度处理电镀污水的方法,其包括如下步骤:(1)对电镀废水进行固液分离;(2)将步骤(1)获得液体通过微电解反应器;(3)将经过微电解反应器的废水pH调至10,然后加入次氯酸钠和氢氧化钠,反应后,调 pH值为6‑7,20min后加入絮凝剂,进行絮凝处理,然后进行静置沉淀,时间4‑6h,之后获得澄清上清液;(4)将步骤(3)处理获得的上清液排到微生物反应池,调节PH值为7-8,然后按照每立方米液体投加生物菌剂10g,静置一周。本发明方法提高处理水量和处理水质,降低运行费用,促进排放水质达到标准。
公开/授权文献
- CN106116042A 一种同步去除氰、铬的深度处理电镀污水的方法 公开/授权日:2016-11-16