Invention Grant
- Patent Title: 用于高致密性散热贴膜的制造工艺
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Application No.: CN201610116960.3Application Date: 2014-01-26
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Publication No.: CN106118516BPublication Date: 2019-03-26
- Inventor: 金闯 , 梁豪
- Applicant: 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
- Applicant Address: 江苏省宿迁市泗洪经济开发区双洋西路6号
- Assignee: 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
- Current Assignee: 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省宿迁市泗洪经济开发区双洋西路6号
- Agency: 苏州创元专利商标事务所有限公司
- Agent 马明渡; 王健
- Main IPC: C09J7/25
- IPC: C09J7/25 ; C04B35/524
Abstract:
本发明公开一种用于高致密性散热贴膜的制造工艺,包括以下步骤:在聚酰亚胺薄膜的上、下表面均涂覆一层石墨改性剂获得处理后的聚酰亚胺薄膜;所述石墨改性剂由以下重量份的组分组成:均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四酸二酐、二氨基二苯甲烷、二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、乙二醇、聚二甲基硅氧烷;将处理后的聚酰亚胺薄膜升温至1200℃,保温后冷却,从而获得预烧制的碳化膜。本发明提高了致密性和结晶度,进一步提高了在垂直方向和水平方向的导热性能,也避免了褶皱和石墨化烧结过程中的体积收缩。
Public/Granted literature
- CN106118516A 用于高致密性散热贴膜的制造工艺 Public/Granted day:2016-11-16
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