真空自耗电弧炉的熔滴控制装置
Abstract:
本发明涉及一种真空自耗电弧炉的熔滴控制装置(1),包括信号检测单元(2)、信号处理单元(3)、通讯单元(4)和控制单元(5)。本发明可以精细的控制真空中多元合金的金属熔滴的熔滴数量和大小,制造出微观金相分布均匀,无偏析、气孔、裂纹、夹杂的合金铸锭,保证了合金熔炼的致密性。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0