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发明授权
CN106158752B 半导体装置的制作方法 有权 转让

半导体装置的制作方法
摘要：
本发明公开一种半导体装置的制作方法，仅需增加一道光掩模，能够提供高压元件较大的间隙壁宽度，对存储器区域及低电压区域内的元件提供较小的间隙壁宽度。本发明主要利用一牺牲保护层，仅覆盖住高电压区域的氮化硅间隙壁，选择性的剥除低电压区域内的氮化硅间隙壁，再去除该牺牲保护层。
摘要（英）：

The invention discloses a method for manufacturing a semiconductor device, an optical mask is added only, big gap wall width is provided for a high voltage element, and small gap wall width is provided for elements in a storage area and low voltage area. According to the invention, a sacrificial protective layer is utilized to coat a silicon nitride gap wall of a high voltage area only, selectively strip a silicon nitride gap wall in the low voltage area and remove the sacrificial protective layer.

公开/授权文献
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77 ..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78 ...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82 ....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822 .....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232 ......场效应工艺
H01L21/8234 .......MIS工艺
H01L21/8239 ........存储器结构
H01L21/8244 .........静态随机存取存储结构（SRAM）
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