发明公开
- 专利标题: 光学投影阵列曝光系统
- 专利标题(英): Optical projection array exposure system
-
申请号: CN201610577265.7申请日: 2013-06-04
-
公开(公告)号: CN106168738A公开(公告)日: 2016-11-30
- 发明人: 大卫·马克尔 , 托马斯·莱迪格 , 杰弗瑞·卡斯基 , 陈正方
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 孙洋
- 优先权: 61/655,475 2012.06.04 US; 13/909,076 2013.06.04 US
- 分案原申请号: 2013800293650 2013.06.04
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本公开涉及一种光学投影阵列曝光系统。公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明‑投影光束分离器,该照明模块被配置为提供照明光,其中,该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;该投影模块被配置为将该照明光投射至基板;该照明投影光束分离器耦接于该照明模块与该投影模块之间;其中,该照明一投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光,并将所接收的照明光沿投影光轴传送至该投影模块,其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。
公开/授权文献
- CN106168738B 光学投影阵列曝光系统 公开/授权日:2019-08-13
IPC分类: