发明公开
- 专利标题: 基于调制射频的动态等离子体产生装置
- 专利标题(英): Dynamic plasma generation device based on modulated radio frequency
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申请号: CN201610693642.3申请日: 2016-08-19
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公开(公告)号: CN106231772A公开(公告)日: 2016-12-14
- 发明人: 李小平 , 雷凡 , 刘彦明 , 刘东林 , 谢楷 , 白博文
- 申请人: 西安电子科技大学
- 申请人地址: 陕西省西安市太白南路2号
- 专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市太白南路2号
- 代理机构: 陕西电子工业专利中心
- 代理商 韦全生; 王品华
- 主分类号: H05H1/46
- IPC分类号: H05H1/46
摘要:
本发明提出一种基于调制射频的动态等离子体产生装置,用于解决现有低气压非平衡放电等离子体产生装置存在的等离子体人为控制难及动态性能差的技术问题,包括等离子体放电腔体、环形高压电极、真空系统、冷却系统、等离子体动态波形发生器、调制射频电源、射频匹配器、射频屏蔽接口和电磁实验屏蔽仓;等离子体放电腔体内安装环形高压电极,两端固定电磁实验屏蔽仓,并与真空系统相连,冷却系统与环形高压电极和等离子体放电腔体相连,等离子体动态波形发生器产生波形信号,调制射频电源将波形信号与本振信号相乘放大,通过射频匹配器和与等离子体放电腔体相连的射频屏蔽接口,将调幅波信号输给环形高压电极。本发明可产生一定频谱的动态等离子体。
公开/授权文献
- CN106231772B 基于调制射频的动态等离子体产生装置 公开/授权日:2020-07-17
IPC分类: