用于沉积功能层的等离子涂覆方法和沉积装置
摘要:
本发明涉及一种用于在基底的表面上沉积功能层的等离子涂覆方法和一种用于执行该涂覆方法的装置。为了提供能够实现较高的涂覆速度且在正常大气条件下进行的等离子涂覆方法而根据本发明提出的是,使用大气等离子体和惰性的载气,从而一方面可以将用于开始进行化学反应的较高能量引入到涂覆材料中,另一方面能够在除去等离子体中的空气氧的情况下实现可控的化学反应。用于形成功能层的涂覆材料经由供给部在除去氧气的情况下被直接供给到在喷嘴内生成的等离子体中。
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