一种用于光刻设备的控制架构

Invention Grant

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Patent Title: 一种用于光刻设备的控制架构
Application No.: CN201510387060.8

Application Date: 2015-07-06
Publication No.: CN106324999B

Publication Date: 2018-06-26
Inventor: 李文彬
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Applicant Address: 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Current Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Current Assignee Address: 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
Agency: 上海思微知识产权代理事务所
Agent 屈蘅
Main IPC: G03F7/20
IPC: G03F7/20

Abstract:

本发明公开一种用于光刻设备的控制架构，包括：一总控制层，该总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯，该分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。

Abstract(English):

The invention discloses a control framework for lithography equipment. The control framework comprises a master control layer, wherein the master control layer communicates with a subsystem control layer through a VME bus; and the subsystem control layer communicates with an execution Layer through a field bus protocol.

Public/Granted literature

CN106324999A 一种用于光刻设备的控制架构 Public/Granted day:2017-01-11

Information query

Chinese Patent Announcement Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）