发明授权
- 专利标题: 一种电磁干扰屏蔽结构
-
申请号: CN201610743469.3申请日: 2016-08-26
-
公开(公告)号: CN106332536B公开(公告)日: 2019-08-02
- 发明人: 刘颖 , 李福腾 , 王耀东 , 刘楠 , 王鑫 , 张晓萍 , 王涛
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 柴亮; 张天舒
- 主分类号: H05K9/00
- IPC分类号: H05K9/00
摘要:
本发明提供一种电磁干扰屏蔽结构,属于电磁干扰屏蔽技术领域,其可解决现有的磁干扰屏蔽结构屏蔽效果差的问题。本发明的电磁干扰屏蔽结构中,图案化的第二金属层与第一金属层之间通过二者之间的绝缘层的过孔连接,使用时,第一金属层靠近欲保护的部件,图案化的第二金属层远离欲保护的部件,这样图案化的第二金属层屏蔽其他辐射源的电磁,其可将电磁反射回去;整层的第一金属层将屏蔽自身的电磁,防止干扰其它部件,该电磁干扰屏蔽结构屏蔽效果好。本发明的电磁干扰屏蔽结构适用于各个领域的电磁防护,尤其适用于印制电路板中高频信号线、集成电路的引脚、各类接插件等之间的电磁防护。
公开/授权文献
- CN106332536A 一种电磁干扰屏蔽结构 公开/授权日:2017-01-11