发明授权
- 专利标题： 一种溅射靶材自循环冷却装置
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申请号： CN201610477880.0申请日： 2016-06-21
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公开(公告)号： CN106399953B公开(公告)日： 2018-12-18
- 发明人: 乔宪武
- 申请人： 杭州联芳科技有限公司
- 申请人地址： 浙江省杭州经济技术开发区白杨街道科技园路2号5幢1层01-11单元93工位
- 专利权人： 杭州联芳科技有限公司
- 当前专利权人： 杭州联芳科技有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州经济技术开发区白杨街道科技园路2号5幢1层01-11单元93工位
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34
摘要：
本发明属于磁控溅射领域，针对靶材散热技术，特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。该装置包括靶材和散热结构，靶材采用合成射流方法降温，靶材对接密封在金属阴极上端，合成射流发生器固定在合成射流腔体内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体储存，沿喷嘴喷出，喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用，升温后的气体进入散热通道，经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。
公开/授权文献
- CN106399953A 一种溅射靶材自循环冷却装置 公开/授权日：2017-02-15
IPC分类:
