显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀剂及其腐蚀方法
摘要:
本发明涉及一种显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀方法,对Mn>70%和Cu>20%的高阻尼锰基铜合金进行金相腐蚀,按常规方法制得试样;将饱和苦味酸溶液与5%~15%硝酸酒精溶液按体积分数比1:0.8~1.1.2充分混合,常温放置至少10min;将试样的抛光面朝上并置入腐蚀剂中,经过至少4min腐蚀后,取出腐蚀后的高阻尼锰基铜合金试样用流水冲洗并用酒精清洗吹干,浸蚀完成晶界显示;在显微镜下以100倍观察并得到晶粒显示照片,并采用对比法或网格法或截点法进行晶粒判断。本发明腐蚀剂能腐蚀出清晰的晶粒度,避免腐蚀基体组织,解决了晶界与孪晶同时出现的问题,操作简单,判断准确性、精确性更高,使用安全。
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